对应逻辑、存储器、图像传感器等种种器件的微细图案制造
ArF扫描式光刻机「NSR-S333F」
BBIN视讯-娱乐游戏官网株式会社（Nikon）将在实现业内最高水平※１重合精度的同时，，，，，，施展高生产效率，，，，，，于2025年10月最先接受ArF（氟化氩）扫描式光刻机“NSR-S333F”的订单。。。。。。。 。该产品团结了最高端机型ArF液浸式光刻机的平台与已经由验证的古板机型ArF扫描式光刻机“NSR-S322F”的光学系统，，，，，，实现了生产效率提升与高精度套刻的兼顾。。。。。。。 。能够知足逻辑芯片、存储器、图像传感器等多种器件的微细图案制造需求。。。。。。。 。
※１ 阻止2025年9月25日，，，，，，BBIN视讯-娱乐游戏官网凭证已宣布的ArF扫描式光刻机中举行的视察。。。。。。。 。
发售概况
| 商品名 | ArF扫描式光刻机「NSR-S333F」 |
| 发售时间 | 2025年10月 |
| 上市予定 | 2026下半年 |
开发配景
随着对IoT和AI需求的一直增添，，，，，，人们对半导体器件微细化和高性能化的要求也在一连提升。。。。。。。 。尤其是在逻辑、存储器、图像传感器等半导体器件的制造领域，，，，，，对ArF扫描式光刻机的高生产效率和高重合精度的需求日益增强。。。。。。。 。
主要特征
１．通过刷新平台，，，，，，使生产效率显著提升
接纳了BBIN视讯-娱乐游戏官网最高端机型ArF液浸式光刻机的平台，，，，，，通过提升晶圆台和光罩台的运行速率，，，，，，实现了每小时300片以上※2的处置惩罚能力。。。。。。。 。
别的，，，，，，进一步提升装备运行的稳固性，，，，，，使生产效率相比以往“NSR-S322F”提升了约1.5倍※3。。。。。。。 。在对重合精度要求极高的半导体制造工艺中，，，，，，该装备在坚持高重合精度的同时，，，，，，展现了卓越的生产效率。。。。。。。 。
※2 以300 mm晶圆、96 shots为例
※3 凭证使用条件等可能有所变换
２．实现了业界最高水平的重合精度
沿用了在以往机型ArF扫描式光刻机“NSR-S322F”中已经由验证的光学系统。。。。。。。 。通过接纳ArF液浸式光刻机的平台，，，，，，提高了晶圆瞄准丈量、光罩台丈量、自动对焦等性能，，，，，，在ArF扫描式光刻机中实现了业界最高水平的重合精度——MMO※4 4nm以下。。。。。。。 。
※4 Mix and Match Overlay。。。。。。。 。统一机型之间的重合精度（例 NSR-S333F#1 to NSR-S333F#2）
主要性能
| 区分率 | ≦ 65 nm |
| NA | 0.92 |
| 曝光光源 | ArF excimer laser (193 nm wavelength) |
| 缩小倍率 | 1 : 4 |
| 最大曝光规模 | 26 mm x 33 mm |
| 重合精度 | MMO : ≦ 4 nm |
| 产出 | ≧ 300 wafers / hour (96 shots) |
